半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept宣布和全球先進微米與奈米科技研究機構CEA-Leti達成一項合作協議。在協議規範下，CEA-Leti提供在先進半導體製程開發方面豐富的專業知識，Qcept則已將其ChemetriQ非光學可視性缺陷晶圓檢測技術，裝設於CEA-Leti位於法國格勒諾伯的研發中心，強化其現有製程特性分析能力。
半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept宣布和全球先進微米與奈米科技研究機構CEA-Leti達成一項合作協議。在協議規範下，CEA-Leti提供在先進半導體製程開發方面豐富的專業知識，Qcept則已將其ChemetriQ非光學可視性缺陷晶圓檢測技術，裝設於CEA-Leti位於法國格勒諾伯的研發中心，強化其現有製程特性分析能力。
Qcept的ChemetriQ平台提供整片晶圓的快速線上NVDs偵測，包括有機與無機殘餘物、金屬污染、製程導致的電荷、水漬，以及其他無法以光學檢測系統檢測的非光學可視性缺陷。ChemetriQ平台透過一種創新且非破壞性的技術，檢測半導體晶圓表面功函數的變化量(Work Function Variation)。ChemetriQ平台的敏銳度高達5E9 atoms/cm2(每平方公分上5E9 atoms或二十萬個原子分之一)，超越國際半導體技術準則(ITRS)針對22奈米技術所規範的金屬感染物標準。
Qcept與CEA-Leti的合作，將讓Qcept的優勢延伸至現有各種非光學可視性缺陷(NVD)檢測應用，以及研究各種潛在新技術，藉以分析各種先進半導體材料與製程特性。這些材料與製程包括高介電常數與低介電常數材料、原子層沉積(ALD)、完全矽化(FUSI)金屬閘極，以及先進的清洗技術。
Qcept行銷副總裁Ralph Spicer表示，CEA-Leti在許多半導體研發的關鍵領域中扮演先鋒角色。與CEA-Leti合作，使其有特別的機會，更早接觸到這些先進技術，讓業界某些尖端應用來證明Qcept ChemetriQ解決方案。
CEA-Leti網址：www.cea.fr.
Qcept網址：www.qceptech.com