德州儀器(TI)所推出LMG3410高壓驅動集成解決方案以劃時代的氮化鎵(GaN)技術為基礎,與傳統矽基技術比較起來,研發人員得以打造更精巧、更具效率、效能更好的應用程式。
德州儀器(TI)所推出LMG3410高壓驅動集成解決方案以劃時代的氮化鎵(GaN)技術為基礎,與傳統矽基技術比較起來,研發人員得以打造更精巧、更具效率、效能更好的應用程式。
高電壓新技術開發事業群主管Steve Tom表示,氮化鎵就像增壓引擎,讓系統更快、更猛,而且功率更高;只要搭配驅動程式、封裝與其他組件,確實就能提升任何系統的效能。
GaN開發團隊的系統暨應用工程師Eric Faraci談到,隨著我們對電子產品的期待提升、以及因物聯網持續發展而使各種裝置相互連結的情況下,我們也就耗用更多電力。電力消耗愈多,就需要興建更多大型發電廠。然而氮化鎵這樣的技術可以大幅提升效率,或許足以讓我們不必再增加發電能力。
GaN是一種超高速半導體材料,由鎵與氮兩種元素合成,可供電子自由移動穿越,效果更甚於矽─也就是長久以來製造電子產品的基本要素。小自手機,大至高端工業機具和伺服器,各種系統的電路運作,皆需切換數百萬計的小型開關;而開關每一次作動,都會產生熱能。
氮化鎵便是更優質且更有效率的半導體材料,可大幅減少生熱,因此設計人員能夠將較多開關納入更小的空間。
德州儀器網址:www.ti.com/tw