旺矽/R&S建置高精度晶圓研發測試解決方案

2015-05-13
旺矽科技(MPI)攜手羅德史瓦茲(Rohde & Schwarz)建置高精度晶圓研發測試解決方案,其中包含MPI晶圓探針台系統與QAlibria校正軟體,提供射頻(RF)與毫米波元件及積體電路(IC)研發人員從校 (Calibration)、模擬 (Modelling)、設計、驗證到除錯等完整的晶圓研發測試解決方案;進一步確保半導體元件的品質與可靠度,避免後段製程中構裝成本的浪費。
旺矽科技(MPI)攜手羅德史瓦茲(Rohde & Schwarz)建置高精度晶圓研發測試解決方案,其中包含MPI晶圓探針台系統與QAlibria校正軟體,提供射頻(RF)與毫米波元件及積體電路(IC)研發人員從校 (Calibration)、模擬 (Modelling)、設計、驗證到除錯等完整的晶圓研發測試解決方案;進一步確保半導體元件的品質與可靠度,避免後段製程中構裝成本的浪費。

據了解,在複雜度與日俱增的奈米製程和時間與成本的雙重壓力下,晶圓的設計、測試與驗證已成為一大挑戰;旺矽推出全新的MPI晶圓探針台系統以呼應市場需求,此探針台系統為兼具易於操作與高準確度的手動測試平台,並注入多項獨特的設計概念。此外,雙方打造QAlibria™校正軟體,此軟體可直接安裝於R&S ZVA高階向量網路分析儀中進行S參數量測,將大幅提升測試準確度並加速射頻電路設計。

此外,MPI晶圓探針台系統的氣靜壓載台設計,採用單臂氣浮式控制,大幅加速XY軸定位與晶圓裝載速度,精確度可達25x25mm XY-Theta微米移動。在平台升降的設計上,可達1µm的高精確度,採接觸(Contact)、分離(Separation,300µm)到裝載(Loading,3mm)三段式設計,並配備安全鎖避免意外發生造成探頭或晶圓的損壞,精巧且剛性的平台設計,最多可容納十個直流電(DC)或四個RF微定位,滿足各種不同的應用需求。

R&S網址:www.rohde-schwarz.com

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