愛德萬測試發表了最新的MASK MVM-SEM(多重視角掃描式電子顯微鏡)，型號E3650。同樣使用愛德萬特有的電子束掃描科技，這台最新的儀器可測量光罩上最精細的圖案尺寸，同時兼具更高的精準度與穩定度。
愛德萬測試發表了最新的MASK MVM-SEM(多重視角掃描式電子顯微鏡)，型號E3650。同樣使用愛德萬特有的電子束掃描科技，這台最新的儀器可測量光罩上最精細的圖案尺寸，同時兼具更高的精準度與穩定度。
E3650是該公司E3600系列的新生力軍，過去E3600系列也廣受光罩半導體市場的歡迎。這次的新作則擁有比現有型號E3640多一倍的測試產能。E3650產能較高的特性，能應付較複雜圖案所需要的大量量測，以及因為多重曝光而增加的光罩數量。 此外，在先進光罩上，此次的新型號在量測EUV光罩、以及奈米壓印應用的主模板上也擁有絕佳表現。
E3650將會於2018年12月12號至14號，在日本東京國際展覽中心所舉行的國際半導體展出。