意法半導體(ST)BiCMOS55 SiGe獲歐洲E3NETWORK研發專案採用於開發適合下一代行動網路高效率、高容量數據傳輸系統。
意法半導體(ST)BiCMOS55 SiGe獲歐洲E3NETWORK研發專案採用於開發適合下一代行動網路高效率、高容量數據傳輸系統。
為因應行動數據使用量迅速成長,網路系統必須支援更大容量及更高數據傳輸速率。而如何加快行動網路向先進網路架構轉型的速度,對回程線路(Backhaul)基礎設施是一個挑戰,例如異質網路(Heterogeneous Network)與雲端無線存取網路(RAN),其中更高頻段,例如E-Band可提供更廣泛頻譜,以支援更快數據傳輸通道。
建設這些超高效率行動網路,設備廠商必須擁有高性能且低功耗、低成本大規模整合電路電子元件。E3NETWORK研發專案利用ST高整合度、低功耗BiCMOS55Si製程,開發出55奈米微影Ft高達320吉赫(GHz)異質接面雙極電晶體(HBT)。這項製程允許在一顆晶片上整合高頻類比模組及高性能、高容量數位模組,例如邏輯電路、類比訊號(AD/DA)轉換器和記憶體。
E3NETWORK專案採用ST BiCMOS55製程,研發一個整合化E-Band收發器,將用於去程線路(Fronthaul)及回程線路網路基礎設施,以實現數位多層調變,及高度聚焦的筆形束(Pencil-Beam)傳輸,數據速率可高達10Gbit/s。筆形束特性有助於提高回程線路及去程線路網路頻率再使用率,同時在毫米波段(Millimeter-Wave)間隔期間確保頻譜效率(Spectrum Efficiency)不受影響。
ST網址:www.st.com