IR推出增強型MOSFET適用負載點同步降壓轉換器應用

2009-05-19
全球功率半導體和管理方案廠商國際整流器(IR)推出一系列新型的25伏特及30伏特N-通道溝道HEXFET功率金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET),他們針對同步降壓轉換器及電池保護增強了轉換效能,適用於消費者和網路方面的電腦運算應用。  
全球功率半導體和管理方案廠商國際整流器(IR)推出一系列新型的25伏特及30伏特N-通道溝道HEXFET功率金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET),他們針對同步降壓轉換器及電池保護增強了轉換效能,適用於消費者和網路方面的電腦運算應用。  

這個新型金屬氧化物半導體場效電晶體系列通過IR得到肯定的矽技術,提供基準通態電阻 (RDS(on)) ,並且改進切換效能,新元件低傳導損耗提高了全負載效率及溫度效能,同時,他們即使在輕負載下,低切換損耗也有助達到高效率。  

單個及雙N通道金屬氧化物半導體場效電晶體現在已開始供應,除了D-PAK、I-PAK和SO-8封裝之外,單個N-通道元件也為高量生產作出了最佳化,提供PQFN 5×6毫米和3×3毫米封裝,雙N通道元件則採用SO-8封裝,新元件符合電子產品有害物質管制規定(RoHS),更可以不含滷素。  

國際整流器網址:www.irf.com

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