德州儀器(TI)日前宣布其氮化鎵(GaN)技術和C2000即時微控制器(MCU)，輔以台達長期耕耘之電力電子核心技術，為資料中心開發設計高效、高功率的企業用伺服器電源供應器(PSU)。該公司研發的伺服器電源供應器功率密度可提高80%、效率提升1%。根據能源與氣候政策公司能源創新(Energy Innovation)估計，效率每改善1%，等於每座資料中心可節省100萬瓦(或800戶家庭用電)的總系統成本。
台達產品應用範圍廣泛，包括資通訊、電動車充電與工業電源等。德州儀器多年來致力於半導體和電腦相關技術，投入氮化鎵技術的開發、應用已長達十年，更提供C2000微控制器等即時控制解決方案。此次德州儀器利用矽基氮化鎵(GaN-on-silicon)技術與積體電路，協助台達等公司打造差異化應用，提升全球資料中心電源效率。
德州儀器高壓電源事業部副總裁Steve Lambouses表示，德州儀器的氮化鎵技術，將效率更高、體積更小且更為可靠的解決方案，推升至全新境界。除了投資技術發展之外，對內更是強化製造生產，以便為台達及其他客戶提供支援，同時也能迅速擴展氮化鎵等新興技術規模。
台達電源及系統事業群(PSBG)副總裁暨總經理尹鏇博表示，氮化鎵已突破研發門檻，將為電源供應系統帶來新的設計方式，並提高產品效能和功率，尤其適合伺服器電源供應器。台達的目標是使能源效率超越98%、功率密度突破每立方英寸100瓦特(W/inch3)。氮化鎵技術將顛覆既有電源設計與架構，未來幾年電源方案和產品的發展令人期待，台達也將善用新技術，進一步強化在資料中心與其它大型應用的電源解決方案。