意法半導體(ST)、安謀國際(ARM)和益華宣布，三方已向Accellera系統促進會(Accellera Systems Initiative)的SystemC語言工作小組提議了三個新的技術方案。此次的三方合作將進一步提高不同模型工具之間的互通性，滿足電子系統層級(ESL)設計的要求。
意法半導體(ST)、安謀國際(ARM)和益華宣布，三方已向Accellera系統促進會(Accellera Systems Initiative)的SystemC語言工作小組提議了三個新的技術方案。此次的三方合作將進一步提高不同模型工具之間的互通性，滿足電子系統層級(ESL)設計的要求。
意法半導體設計支援和服務部門執行副總裁Philippe Magarshack表示，這些新介面對於加強電子系統層級生態系統至關重要。在意法半導體、ARM和Cadence的推動下，作為向不同模型工具互通目標邁出的一步，這些標準方案可大幅降低與整合虛擬原型相關的研發風險和工作量。減去對轉接器(Adapter)的需求將會提高虛擬原型模擬性能，加快軟硬體整合速度，從而縮短產品上市時間。
三方提議的技術方案包括新的中斷模型介面、應用編程介面和記憶體映射模型。中斷模型介面可無縫地整合不同公司設計的中斷模型；應用編程介面用於寄存器自我檢測，使不同廠商的工具能夠互通，並無縫地顯示和更新寄存器數值；記憶體映射模型用於提高虛擬平台軟硬體多核系統的偵錯效率。
意法半導體網址：www.st.com